

 更新時間:2025-10-24
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京都玉崎到貨!SEM坂本電機 數字水平儀 SELN-001B!
京都玉崎到貨!SEM坂本電機 數字水平儀 SELN-001B!
日本原裝產品到貨深圳倉庫后,京都玉崎倉庫負責人對其驗貨,核對數量及質量問題安排入庫。
再安排人員檢驗合格后,均已符合出廠要求。
客戶九月上旬咨詢并訂貨兩臺SEM坂本電機 數字水平儀 SELN-001B! ,10月23日上午產品由深圳倉庫由專業人員進行檢驗,檢驗完畢后。一周內將發往廣東珠海給對應采購的客戶。
產品特點:
1. 雙軸同步測量
同時檢測X/Y軸傾斜,避免單軸測量導致的調整誤差,確保設備水平度在0.001°級精度內。
測量分辨率達0.0002°,零點重復性±0.001°或更低,滿足半導體設備對微小傾斜的嚴苛要求。
2. 實時數字反饋與遠程監控
通過4.3英寸彩色LCD觸摸屏或外接顯示器直接顯示角度值,支持μm/m或角度單位(°、°′″)切換。
數據可實時輸出至云端或本地系統,配合AI算法生成三維空間偏差分析報告,優化調整流程。
3. 抗干擾設計與環境適應性
采用電磁屏蔽和振動補償算法,確保在半導體車間復雜電磁環境與機械振動下的測量穩定性。
工作溫度范圍-10°C至+50°C,適應無塵車間恒溫控制需求。
二、在半導體制造中的具體應用案例
1、光刻機校準
晶圓臺調平:光刻機工作臺傾斜會導致焦平面偏移,影響曝光精度。SELN-001B可快速檢測并調整至≤0.001°,確保EUV/DUV光刻的成像質量。
光學系統校準:用于調整反射鏡、透鏡組的角度,優化光路準直,減少像差,提升關鍵尺寸(CD)控制精度。
2、刻蝕設備調平
反應腔室調平:確保等離子體均勻分布,避免刻蝕速率不均(如邊緣與中心差異),提升晶圓內均勻性(WIU)。晶圓承載臺校準:雙軸同步測量優化承載臺水平度,減少刻蝕偏差,降低缺陷率。
3、鍍膜設備安裝
真空腔室調平:高精度調平縮短設備安裝時間,提高鍍膜均勻性,滿足納米級薄膜工藝要求。
蒸發源角度校準:確保材料沉積厚度一致,減少薄膜應力導致的晶圓彎曲。
4、后道工藝支持
CMP(化學機械拋光):拋光平臺水平度直接影響晶圓表面平坦度,SELN-001B可實時監測并調整,降低表面粗糙度(Ra)。
晶圓鍵合機:在3D NAND等堆疊工藝中,確保鍵合界面對準精度,減少層間錯位。
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